Contaminação quimica superficial de implantes osseointegrados: Estágio atual

dc.contributor.authorTavares Júnior, Carlos Alberto Reis de Faria
dc.date.accessioned2023-03-29T18:00:15Z
dc.date.available2023-03-29T18:00:15Z
dc.date.issued2002
dc.description.abstractAtualmente a implantodontia é um dos grandes recursos para a reabilitação oral. O êxito deste tipo de tratamento está diretamente relacionado à preservação da integridade dos dentes vizinhos e ao crescente avanço nos conhecimentos sobre biomateriais. O titânio, é hoje, o material de eleição para este tipo de procedimento, formando entre a sua superfície e o tecido ósseo a bioadesão. Diversos fatores podem contribuir para o insucesso desta técnica, entre eles: a contaminação da superfície metálica, que pode ocorrer durante a produção, esterilização e manuseio dos implantes. Este estudo, baseado na revisão da literatura, procurou discutir a influência destas substâncias no sucesso clínico deste procedimento. Concluímos que: os implantes de titânio apresentam contaminação superficial, provenientes do processo de fabricação, limpeza, esterilização e embalagem, bem como durante a manipulação clínica do material; esta contaminação pode influir negativamente, total ou parcialmente, no processo de osseointegração; dentre as substâncias que podem ser encontradas na superfície dos implantes destacam-se o carbono, cálcio, fósforo, sódio, flúor, silício, cloro, enxofre, alumínio, ferro e nitrogênio; são necessários estudos experimentais para se estabelecer os limites de contaminação e a influência desta no processo de osseointegração.
dc.identifier.citationTAVARES JÚNIOR, C. A. R. F. Contaminação quimica superficial de implantes osseointegrados: Estágio atual. 2002. Dissertação (Mestrado em Odontologia) — Universidade Santo Amaro, São Paulo, 2002.
dc.identifier.urihttp://dspace.unisa.br/handle/123456789/344
dc.language.isopt
dc.publisherUNISA
dc.subjectTitâniopt
dc.subjectContaminação superficialpt
dc.subjectImplante osseointegradopt
dc.titleContaminação quimica superficial de implantes osseointegrados: Estágio atual
dc.typeDissertaçãopt
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